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北京科华微电子材料有限公司成立于2004年8月，是一家专业的、集先进微电子化学品-光刻胶及光刻胶配套试剂产品的研、产、销为一体的、拥有自主知识产权的高新技术企业。本公司具有自主开发的紫外正性光刻胶(G/I线光刻胶)和在国家02专项支持下完成的248nm光刻胶（KrF光刻胶）的完整产线，公司的产品目前在国内同行业中暂处领先地位；公司力争在产品品牌保持国内领先的同时，随着国内集成电路产业的发展，继续开发并完成193nm光刻胶（ArF 光刻胶）的产线建设，完成封装（Bumping）光刻胶与微机械（MEMS）光刻胶的产品开发并逐步实现此类产品的国产化供应，努力地向着国际一流光刻胶企业的目标进军！ 

本公司视产品质量为生命，“质量第一，用户至上”是公司发展的基石。公司以“立足本土，面向世界”的信念，依据国际和国家的先进技术标准规范建立了自己的企业标准化体系，所制定的产品企业标准已在政府主管部门备案；依据国际质量管理体系标准建立了质量管理和品质保证体系，通过了华夏认证中心的质量管理体系认证，获得了UKAS质量管理体系认证证书。公司具有实力雄厚、国内领先的研发团队与技术支撑团队，拥有成套的分析和应用测试仪器设备，具有企业自建的G/I线光刻胶的应用测试平台，在02专项支持下建立起来的KrF光刻胶的应用测试平台；系北京市命名的 “光刻胶工程实验室”和国家发改委与北京市发改委联合命名的“光刻胶国家地方联合工程研究中心“。公司的各类应用测试平台向全社会开放，以促进整体国内光刻胶的发展。

公司秉承“以人为本，和谐发展”的企业宗旨，竭诚为国内外的广大用户提供高性价比的产品，通过向市场提供高质量的系列光刻胶及配套材料产品和优质的服务来回报各界朋友对我们的厚爱和支持。 衷心感谢多年来各相关部门与业界同仁在北京科华微电子材料有限公司的发展中给予的帮助与支持，真诚希望与更多的中外朋友携起手来，密切合作，共创中国微电子技术用光刻胶及配套材料的辉煌！